半導體的挑戰,用EUV極紫外線來突破

Sep 22,2016688

    

延續前一篇的分析師文章,漢微科(3658)目前看似風光的營運成果,卻隱藏兩大未來隱憂,不僅是驅使董事長許金榮最後決定100%嫁入ASML的原因,更是當前全球半導體設備廠商都必須得面對的難題。

 

(一)摩爾定律即將碰壁了。

 

 

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半導體的製程微縮,過去50年循著摩爾定律發展(所謂摩爾定律指得是每18到24個月,電晶體的數目就會增加一倍),2002年來到90奈米,2008年推進到45奈米,2012年跨入到28奈米,2016年進展到14奈米,然而,隨著製程開始投入到10奈米、7奈米的製程技術之後,不僅要面對技術難度更高的困境,更要面臨即將碰壁的局面,前者攸關要花更多的錢,後者則是錢花下去之後的效益評估。

 

 

 

(二)10奈米以下,將進入到另一個技術層級。

 

 

 

以半導體製程中的「微影」技術為例,10奈米以下便要進入到另一個技術層級。

 

 

 

首先,先來解釋什麼叫做微影技術?其實原理就像是相機的照相技術,透過將眼前的景象拍攝儲存到底片、記憶卡之後,便可將照片洗出來,而半導體的微影技術,其實就是將配置好的電路設計「拍照」下來之後「儲存」到晶圓中,然而不同的是,一般相機需要太陽光,或自然光來當光源,而半導體則是利用雷射光來當光源,不過由於雷射光有一定的物理極限,因此一旦進入到10奈米以下,便要改採波長只有雷射光1/10的EUV極紫外線,才有辦法克服物理的極限,來持續推進半導體的製程。

 

 

 

2016-9-19 下午 04-03-39

 

 

 

 

然而,利用EUV極紫外線來當光源,不僅維持良率是一大問題,研發費用更是龐大,因此現階段的設備廠商,為了分擔研發風險,只好透過「打群架」的策略來結盟因應,而為了支應這個打群架聯盟,台積電(2330)投資14億美金、Samsung支付9.75億美金、英特爾更大手筆砸下41億美金,來支持上游的半導體設備商ASML。

 

 

 

換言之,當漢微科(3658)決定100%賣給ASML之後,一方面讓自己擠身到這個打群架聯盟,另一方面也成功拿到了10奈米以下贏者圈的入場券了。

 

 

 

 

 

@更多完整分析內容,可延伸閱讀:發掘未來10年產業趨勢:半導體設備一文。

 

 

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